依托多弧离子镀工艺设计，金属电离比例、沉积速率适配批量生产需求，膜层结合力表现稳定，适配多类装饰镀膜与功能性镀膜加工场景。

集成磁过滤多弧离子镀与非平衡磁控溅射工艺，适配切削刀具、精密模具镀膜加工，制备耐高温、抗腐蚀硬质膜层，改善工件使用周期。

一体化 UV 喷涂与紫外固化流水线，整合上料、除尘、喷涂、流平、固化、下料整套工序，可配套 PVD 镀膜产线联动使用，完成工件表面防护、提亮、多色饰面加工。

采用平面、旋转磁控溅射工艺，可制备结构均匀的金属及化合物膜层，适配多种基材与不同镀膜加工工况

采用立式双门交替作业结构，上料装卸与镀膜工序可同步开展，兼容磁控溅射、电阻蒸发、防护膜层多种镀膜工艺，单台设备适配多类镀膜生产需求。

集成电子束蒸发、磁控溅射复合工艺，搭配离子源辅助沉积单元，适配多层精密光学膜层加工，可制备均匀、杂质含量低、厚度偏差可控的光学膜层。

在常规蒸发镀膜设备基础上迭代优化，整合真空蒸发镀膜、HMDSO 等离子聚合沉积两类工艺，单工序完成车灯反光件金属反射层与硅油防护膜复合镀膜，可替代传统喷涂加工方式。

搭载非平衡闭合磁控溅射、FCVA 过滤阴极电弧两类工艺，可在低温条件下制备含氢、无氢 DLC 涂层，膜层摩擦系数偏低，具备减磨、自润滑理化特征。

采用大容量镀膜腔体结构，整合多弧离子镀、磁控溅射复合工艺，可制备色泽均匀、耐候表现良好的彩色装饰膜层，可替代传统水电镀工艺。