CCZK-DLC 类金刚石镀膜设备
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CCZK-DLC 类金刚石镀膜设备

搭载非平衡闭合磁控溅射、FCVA 过滤阴极电弧两类工艺,可在低温条件下制备含氢、无氢 DLC 涂层,膜层摩擦系数偏低,具备减磨、自润滑理化特征。
联系地址:江苏省南通市通州湾示范区大豫镇江新路16号
  • 核心优势

1.涂层摩擦系数≤0.15,自带自润滑效果,可减少外部润滑介质使用

2.无氢 ta-C 涂层硬度可达 63GPa,具备良好耐摩擦表现

3.沉积温度区间控制在 100~200℃,适配受热易变形的基材加工

4.膜层结构紧实,可耐受酸碱环境、盐雾腐蚀工况

  • 核心技术

1.自有 DLC 配套工艺方案,降低膜层内应力,减少开裂、膜层剥离现象

2.可移出式三维工装转架,工件装取操作简单,适配多种尺寸零部件

3.配套全自动控制系统,各类成熟工艺参数可一键调用

4.支持多款 DLC 膜层制备,匹配不同产品加工工况需求

  • 设备参数
型号CCZK-1012-DLCCCZK-1416-DLC
腔体尺寸D1000mm*H1200mmD1400mm*H1600mm
负载功率140KW170KW
占地面积L5400mm*W5200mm*H2900mmL6155mm*W5050mm*H3210mm
可镀颜色黑色、深灰色、哑光黑,七彩
可镀膜层含氢 DLC、无氢 ta-C、W-DLC、GLC、WC/C;硬度 1500HV~63GPa,摩擦系数≤0.15
真空系统扩散泵/涡轮分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵(深冷系统可选)
极限真空5*10⁻⁴Pa
转动系统行星自转和公转系统
6/8/10/12/16轴
镀膜系统CKB®平面溅射阴极 / CKB®圆柱溅射阴极 / IET®离子蚀刻源 / 分布式 MFC 气路 / HIPIMS 溅射
电源脉冲直流溅射电源 / 双极溅射电源 / 射频溅射电源 / 脉冲偏压电源 / HIPIMS 电源 / IET®蚀刻源电源
操作系统全自动(IPC/PLC)+远程操作+报警系统
(支持OPC-UA Link协议)
备注具体配置大小均可根据客户的镀膜产品要求进行设计
  • 核心应用

适配发动机活塞、滑动密封配件、有色金属切削刀具、医疗器件、手机精密零部件、金属表带、首饰制品镀膜加工,可制备含氢 DLC、无氢 ta-C、W-DLC、GLC、WC/C 多种涂层,呈现黑色、深灰色、哑光黑、七彩外观效果。膜层硬度区间 1500HV~63GPa,摩擦系数≤0.15。

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